НАНЕСЕНИЕ ПОКРЫТИЙ

Область применения: нанесение широкозонных покрытий типа A­2B6 (ZnS, ZnSe, ZnS/ZnSe) на подложки методом термического испарения из эффузионных ячеек Кнудсена с предварительной ионно-лучевой очисткой.

Исходные данные:

  1. Область применения: полупроводниковые лазеры
  2. Размеры обрабатываемых подложек: круглые шайбы диаметром 2”, толщина около 400 мкм
  3. Материал подложек: арсенид галлия.
  4. Количество одновременно обрабатываемых подложек: не менее 3 шт.
  5. Производительность установки, в смену: 3шт.
  6. Способ нанесения покрытия: метод молекулярно-лучевой эпитаксии из эффузионных ячеек Кнудсена. Напыление одностороннее.
  7. Описание процесса: подложка проходит химическую очистку, затем наносится маска из фоторезиста. На открытые участки проводится напыление из молекулярного испарителя.
  8. Толщины покрытий:≈ 2,5 мкм
  9. Скорость напыления: до 2 мкм/ч.
  10. Способ подготовки поверхности перед нанесением покрытия: ионный источник очистки
  11. Количество рабочих газов: 2 (Аргон, Азот)
  12. Количество молекулярных источников: 2 шт.
  13. Молекулярные источники должны иметь:

- установочный фланец Ду63 либо Ду100 с соединением типа СF;

- диаметр тигля 1-1,5”;

- материал тигля PBN;

- максимальная рабочая температура нагрева:900 - 1000°С;

- заслонки;

   14. Максимальная температура нагрева подложек: 350С

   15.Выход на рабочую температура нагрева подложек: до 200С за 30 мин

- Разброс температур по карусели: не более ± 5%.

- Точность установки температуры: не более ± 5%.

  16. Ручная загрузка.

  17. Расстояние от технологического устройства до подложек: не менее 220 мм.

  18. Разброс толщины напыленной пленки по подложке: не более ±5%.

  19. Контроль толщины напыленной пленки осуществляется по показаниям двухпозиционного кварцевого датчика с управляемой заслонкой;

   20.Контроль качества покрытия: визуальный контроль, профилометр.

   21. Скорость вращения карусели, регулируемая в диапазоне 0 ÷ 15 об/мин.

   22.Безмаслянная система откачки.

   23. В рабочей камере желательно максимальное использование фланцевых соединения типа CF

   24. Вакуум предельный: не хуже 7х10-5 Па, рабочий - не хуже 5х10-4 Па

   25. Время откачки до рабочего давления после выхода высоковакуумного насоса на режим и после открытия высоковакуумного затвора: не более 30 минут.

   26.Обязательное охлаждение стенок камеры.

   27. Предусмотрена возможность нагрева рубашки рабочей камеры до 50-60 С0 проточным нагревателем перед вскрытием на атмосферу и после закрытия, перед форвакуумной откачкой.

   28. Установка оборудована кнопкой аварийной остановки;

   29. Система управления обеспечивает проведения технологического процесса в ручном или автоматическом режимах.

   30. Установка оборудована сенсорным дисплеем и ПК со специализированным программным обеспечением, для вывода наглядной информации и управления технологическим процессом.

Недавно просмотренное Вами оборудование

Яндекс.Метрика
Top